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纪文姝看书，还必须精读，不是那种不求甚解的随便读读，花费的时间就更多。
李云海和纪文姝，又谈到了工作。
纪文姝把科研的进展情况，向李云海作了汇报。
当初李云海提出来，要研制浸润式光刻机。
浸润式光刻机，是指在光刻机投影镜头与半导体硅片之间用一种液体充满，从而获得更好分辨率及增大镜头的数值孔径，进而实现更小暴光尺寸的一种新型光刻技术。
李云海只知道有这么一种技术。
但他只知其然，不知其所以然。
浸润式光刻机技机，具体是怎么样的，他说不出来。
纪文姝道：“李总，我们现在使用的浸入液是环辛烷。
可是我们还存在很多问题没有解决。
对浸入液的充入、镜头的沾污、光刻胶的稳定性和气泡的伤害等关键问题，我们都要一一解决。”
李云海道：“多久能解决这些难题？”
纪文姝道：“我现在不好说，难题太多，我们只能一边研究一边攻克。”
2000年以前，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。
然而，157nm光刻技术遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。
这是由于绝大多数材料会强烈地吸收157nm的光波，只有CaF2勉强可以使用。
但研磨得到的CaF2镜头缺陷率和像差很难控制，并且价格相当昂贵。
雪上加霜的是，它的使用寿命也极短，频繁更换镜头让芯片制造业无法容忍。
有远见的科学家们，早就看到了未来光刻机的极限。
他们一直在寻求新的突破。
研究浸润式光刻机的，也不仅仅只有四海集团一家公司。
当前的主流研究方向，是基于157nm浸入式光刻。
可是遇到的难题，却让所有人止步不前。
现在，纪文姝也遇到了同样的难题。
其他科研机构，已经放弃了这个课题，转从其他方面着手研究。
但是四海集团并没有放弃。
因为李云海知道，几年以后，浸润式光刻机，肯定会被研究出来。
也就是说，总有一种办法，可以突破现在的瓶颈。
可惜，李云海前世并不是做光刻机的。
他对具体的光刻机技术，只知其一，不知其二。
听纪文姝谈及到具体的科研困难，李云海忽然想到了什么，问道：“现在的研究，是基于157nm波长？对吗？”
纪文姝道：“是的，李总，我们现在要做的，就是突破157nm波长。
可是在157nm波长下，水是不透明的液体，我们很难得到想要的折射率。”
李云海用手指轻轻敲击额头，说道：“不对！
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