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“记录时间。”
他轻声说，“2011年12月24日，上午11点37分，国产EUV光刻机首次实现全系统稳定出光。
光源功率260W，持续时间42分钟，达到商用门槛。”
技术人员郑重记下这一刻。
随后，第一片12英寸硅片被送入曝光舱。
预设图案是八个汉字：**光出东方，星火燎原**。
两小时后，显影完成。
电镜检测结果显示：线条清晰，边缘陡直，关键尺寸偏差仅±0.9nm。
完美。
当晚，唐静荷没有参加庆功宴。
他独自一人回到办公室，打开保险柜，取出父亲那本《精密加工十八法》，翻到最后一页空白处，提笔写下：
>2011年12月24日，平安夜。
>国产EUV首次成功曝光。
>图案是我们自己设计的八个字。
>没有向任何人炫耀，也没有发一条朋友圈。
>我只是把它拍下来，发给了远在老家的母亲。
>她回了一个字：好。
>那一刻，我觉得这一生，值了。
第二天，消息通过内部渠道悄然传开：EUV原型机联调成功，即将转入小批量试产阶段。
与此同时，国家发改委紧急召开会议，决定提前拨付“星火工程”
三期专项资金80亿元，并特批在上海临港建设**国家级极紫外光刻技术创新中心**，整合全国顶尖资源，加速产业化进程。
然而，风暴也随之而来。
圣诞次日，美国商务部宣布对中国实施史上最严苛的技术封锁措施：全面禁止向中国出口任何可用于先进制程的光学材料、特种陶瓷、高性能电机及精密传感器；同时施压荷兰、日本政府，要求其国内企业停止与中国开展任何形式的技术合作，违者将面临二级制裁。
更致命的是，美国国务院联合北约情报机构发布所谓“安全警告”
，声称中国正在利用民用半导体项目“伪装军事用途”
，并公开一份所谓“未来科技高管名单”
，暗示其核心团队成员涉嫌“窃取西方技术”
。
舆论战随之打响。
欧美主流媒体密集刊发文章，《纽约时报》称：“中国所谓的EUV突破不过是精心策划的政治表演，真实技术水平仍落后至少十年。”
《经济学人》则冷嘲热讽：“他们或许能点亮一束光，但造不出一个完整的生态系统。”
资本市场剧烈震荡。
港股半导体板块单日暴跌12%，多家基金紧急抛售相关持仓。
甚至有国内自媒体煽风点火：“别再吹牛了，我们连光刻胶都做不好，谈什么EUV？”
面对质疑，唐静荷罕见地选择了沉默。
直到元旦前夕，他才在接受央视专访时首次回应：“他们说得对，我们确实造不出完美的光刻胶。
但现在我们有二十家化工企业在攻关，其中三家已做出90%性能替代品。
我们也确实没有顶级镜头，但我们正在用算法补偿光学缺陷。
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