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真空腔内的反『射』镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几次反『射』，最终剩下的光线不到2！”
围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。
光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。
光线利用率不到2已经是优化其他『性』能所能够得到的最佳数据，决定该『性』能优化的决定『性』关键就是反『射』镜的精度。
“精度必须以皮秒来计算。”
换句话说，光刻机所需的反『射』镜精度必须打磨到万亿分之一米。
盛明安：“用硅和钼反复镀膜，直到光线利用率达到国际标准。”
当下有人反驳：“都是纳米级镀膜，反复镀膜也会影响精度，工艺太难了！”
难度多大？
最浅显易懂的比喻便是将一面直径不超过四十厘米的反『射』镜放大至覆盖地面，其平面起伏不能超过一根头发的直径。
而光刻机所需的反『射』镜多达四五十层，平面精度一层比一层要求更平整。
全球只有德国蔡司这家传承三代以上的企业才造得出这种反『射』镜。
当然，反『射』镜不对华出口。
盛明安：“不用担忧反『射』镜能不能被打磨出来，你们只需要尽己所能考虑反『射』镜在光的收集和转化率这一单元里，能够被如何利用到极致。”
“数据、模型，不管失败成功，统统记录下来。”
盛明安语速打机关-枪似的，斩钉截铁、不容置喙，仿佛难度高到爆表的光源系统在他眼里层次分明、井然有序，所有的技术难点都可以被轻松解决。
他胸有成竹，心有沟壑。
他不必开口安慰，只要用平淡轻松的口气下达每一道指令就能安定实验室每个人退怯、不自信的心。
“杜颂，打开你的odelica先进行初步的超精密激光器建模仿真。”
odelica是一款可实现复杂的物理系统仿真建模的计算机语言软件，可用于光刻机某些超精密部件的仿真建模。
杜颂：“已在创建。”
他领着自己小组成员低头忙碌。
“雷客，你调整一下光路结构。”
“好。”
雷客示意助手打开opc（光学邻近矫正）软件，通过模型动态仿真结果计算查找表修正光与图案。
盛明安匍匐在桌案，设计市场需求的激光光源，就目前的技术发展而言，光刻机激光光源仍以激光等离子体为主。
驱动光源产生的碎屑数量，光谱纯度，每提高一个技术节点消耗的功率和产能……其实日前最先进的euv，其功率消耗大、产能低，再过五六年也未能完美解决这两个问题。
可盛明安不清楚。
他虽不愿用前世记忆盗窃他人成果提前制造出国产光刻机，可前世是他完美解决euv产能低的问题，因此习惯『性』顺手将这难题归入待解决列表之一。
以至于后来一举攻破该技术节点实现反超asl目标，实属意料之外。
15年5月份左右，国际半导体发生了一件大事。
asl官网对外发布突破光刻机量产瓶颈，正式对外售出可量产14n极紫外光刻机！
此举瞬间激起千层浪，全球各界媒体报道不休，半导体发烧友热闹得跟过年一样纷纷发表讨论。
国内贴吧、技术论坛和『逼』乎新帖不断，基本都是讨论asl这一举措将带来怎么的影响。
【光刻巨人：asl真正的崛起！
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